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表面和亚表面特性对多层膜光栅成像对比度的影响

作者:张龙飞,王星睿,邓晓,程鑫彬 | 计量学多层膜光栅成像对比度表面特性粗糙度刻蚀均匀性tem

摘要:基于Si/SiO2材料对制备出名义节距为50nm的多层膜光栅,重点分析了多层膜光栅研磨抛光过程中的亚表面损伤和湿法刻蚀均匀性问题。并利用原子力显微镜(AFM)和透射电子显微镜(TEM)对多层膜的截面粗糙度和刻蚀光栅结果进行了测量和分析。测量结果显示:多层膜光栅制备过程中的哉面粗糙度降低乖¨刻蚀均匀性的提高,有助于TEM测量获得均一的高成像对比度多层膜光栅图像。

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计量学报

《计量学报》创刊于1980年,由中国计量测试学会主办。本刊报道计量和精密测试科学技术的最新研究成果和进展。刊登具有创造性的学术论文、研究简报。内容包括:几何量、温度与热物性、力学、电磁学、光学、电子学、声学、时间频率、电离辐射、化学与标准物质、生物等学科的计量基准和标准的研制;测量原理和方法的研究;新技术的应用及计量学科的现状、发展趋势预测等。本刊是中文核心期刊,被Scopus等多种国内外知名数据库收录。读者为从事计量测试工作的科技人员和大专院校师生。

《计量学报》1992年获得中国科协优秀学术期刊二等奖;1992年获得全国优秀科技期刊三等奖。

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